Description

Fourniture d’un réacteur de dépôt de couches minces par pulvérisation cathodique au laboratoire Institut FOTON à l’INSA Rennes.

Informations complémentaires

Les variantes libres ne sont pas autorisées mais les candidats sont invités à chiffrer 2 options facultatives : Option n°1 : porte substrat chauffant jusque 800°C Option n°2 : une alimentation RF et son boitier d’accord d’impédance dédiés à la polarisation du porte substrat. Visite du site obligatoire préalablement au dépôt de l'offre