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Consulter l'avis en vigueur 25-119385 (réponse avant le 24 nov. 2025, 12:00)Fourniture d’un réacteur de dépôt de couches minces par pulvérisation cathodique au laboratoire Institut FOTON à l’INSA Rennes.
Description
Fourniture d’un réacteur de dépôt de couches minces par pulvérisation cathodique au laboratoire Institut FOTON à l’INSA Rennes.
Informations complémentaires
Les variantes libres ne sont pas autorisées mais les candidats sont invités à chiffrer 2 options facultatives : Option n°1 : porte substrat chauffant jusque 800°C Option n°2 : une alimentation RF et son boitier d’accord d’impédance dédiés à la polarisation du porte substrat. Visite du site obligatoire préalablement au dépôt de l'offre
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Historique du dossier
Fourniture d’un réacteur de dépôt de couches minces par pulvérisation cathodique au laboratoire Institut FOTON à l’INSA Rennes.
Fourniture d’un réacteur de dépôt de couches minces par pulvérisation cathodique au laboratoire Institut FOTON à l’INSA Rennes.
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